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全自动双腔半导体退火炉

全自动双腔半导体退火炉

简要描述:

全自动双腔半导体退火炉,RTP-DTS-8是一款全自动双腔快速退火设备,可兼容6-8英寸晶圆Wafer。

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快速退火炉是利用卤素红外灯作为热源,通过极快的升温速率,将材料在极短的时间内从室温加热到300℃-1250℃,从而消除材料内部的一些缺陷,改善产品性能。

全自动双腔半导体退火炉,RTP-DTS-8是一款全自动双腔快速退火设备,可兼容6-8英寸晶圆Wafer。

全自动双腔半导体退火炉产品优势:

全自动双腔设计,有效提升产能;

最高温度可达1250℃,具有超高温场均匀性;

具备稳定的温度重现性;

能够满足SIC量产化制程需求。

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