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晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用

晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用

简要描述:

晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用,会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

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晟鼎-小型真空等离子清洗机 半导体行业应用,会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用

(1)达因特真空等离子清洗机产品简述

(1.1)等离子清洗的作用

等离子清洗的作用原理主要是:

(A)对材料表面的刻蚀作用--物理作用

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,不但清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

(B)激活键能,交联作用

等离子体中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的键能在0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。

(C)形成新的官能团--化学作用

如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。

(1.2)小型真空等离子清洗机清洗的优势

等离子清洗作为重要的材料表面改性方法,已经在众多领域广泛使用。晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用

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